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    為什么SiC在高頻下的表現(xiàn)優(yōu)于IGBT?[ 12-20 14:39 ]
    在大功率應用中,過去主要使用IGBT和雙極晶體管,目的是降低高擊穿電壓下出現(xiàn)的導通電阻。然而,這些設備提供了顯著的開關損耗,導致發(fā)熱問題限制了它們在高頻下的使用。使用碳化硅可以制造肖特基勢壘二極管和MOSFET等器件,實現(xiàn)高電壓、低導通電阻和快速運行。
    為什么碳化硅能承受這么高的電壓?[ 12-20 14:35 ]
    功率器件,尤其是MOSFET,必須能夠處理極高的電壓。由于電場的介電擊穿強度比硅高約十倍,SiC可以達到非常高的擊穿電壓,從600V到幾千伏。SiC可以使用比硅更高的摻雜濃度,并且漂移層可以做得非常薄。漂移層越薄,其電阻越低。理論上,給定高電壓,單位面積漂移層的電阻可以降低到硅的1/300。
    為什么SiC在功率應用中戰(zhàn)勝了Si?[ 12-20 14:32 ]
    碳化硅(SiC)是一種由硅(Si)和碳(C)組成的半導體化合物,屬于寬帶隙(WBG)材料系列。它的物理結合力非常強,使半導體具有很高的機械、化學和熱穩(wěn)定性。寬帶隙和高熱穩(wěn)定性允許SiC器件在高于硅的結溫下使用,甚至超過200°C。碳化硅在功率應用中的主要優(yōu)勢是其低漂移區(qū)電阻,這是高壓功率器件的關鍵因素。 盡管是電子產品中使用最廣泛的半導體,但硅開始顯示出一些局限性,尤其是在高功率應用中。這些應用中的一個相關因素是半導體提供的帶隙或能隙。當帶隙很高時,它使用的電子設備可以更小、運行得更快、更可靠。它還可
    碳化硅在電子領域有哪些應用?[ 12-20 14:28 ]
    碳化硅是一種非常適合電力應用的半導體,這主要歸功于它能夠承受高電壓,比硅可使用的電壓高十倍。 基于碳化硅的半導體具有更高的熱導率、更高的電子遷移率和更低的功率損耗。 碳化硅二極管和晶體管還可以在更高的頻率和溫度下工作,而不會影響可靠性。 SiC器件的主要應用,例如肖特基二極管和FET/MOSFET晶體管,包括轉換器、逆變器、電源、電池充電器和電機控制系統(tǒng)。
    博世開啟碳化硅芯片大規(guī)模量產計劃[ 12-18 14:59 ]
    12月3日,博世中國官方發(fā)布消息稱,經過多年的研發(fā),博世目前準備開始大規(guī)模量產由碳化硅這一創(chuàng)新材料制成的功率半導體,以提供給全球各大汽車生產商。未來,越來越多的量產車將搭載博世生產的碳化硅芯片。“碳化硅半導體擁有廣闊的發(fā)展前景,博世希望成為全球領先的電動出行碳化硅芯片生產供應商。"博世集團董事會成員HaraldKroeger表示。 博世于兩年前宣布將繼續(xù)推進碳化硅芯片研發(fā)并實現(xiàn)量產。為實現(xiàn)這一目標,博世自主開發(fā)了極為復雜的制造工藝流程,并于2021年初開始生產用于客戶驗證的樣品。&ldq
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