碳化硅微粉：噴砂與磨料行業(yè)中的明星材料[ 07-10 10:23 ]

引言 在現代工業(yè)的精密工藝中，碳化硅（SiC）微粉作為一種高性能的非氧化物陶瓷材料，正以其卓越的物理與化學特性，引領著噴砂和磨料技術的革新潮流。 碳化硅微粉的魅力 碳化硅微粉，以其高達莫氏硬度9.5的堅硬質地，以及出色的耐磨性和耐高溫能力，成為工業(yè)界不可或缺的材料之一。其在噴砂與磨料行業(yè)中的表現，更是令人矚目。 高效精準的噴砂工藝 噴砂技術，通過壓縮空氣將磨料高速噴射至工件表面，實現去污、除銹及表面預處理的目的。選用碳化硅微粉作為噴砂介質，不僅因它的高硬度確保了快速有效的表面處理，還能顯著降低磨料的損耗率

碳化硅、白剛玉等磨料微粉是如何進行顆粒整形？[ 11-02 16:00 ]

隨著新材料產業(yè)的發(fā)展、傳統(tǒng)產業(yè)的技術進步和產品升級，工業(yè)生產中對粉體原料提出越來越高的要求

大面積碳化硅陶瓷膜層化學氣相沉積（CVD）技術[ 08-23 16:25 ]

光刻機等集成電路關鍵制造裝備中某些高性能光學元件對材料制備有著苛刻的要求，不僅要求材料具有高的穩(wěn)定性，還需滿足某些特定的光學性能要求。反應燒結碳化硅經拋光后其面型精度高，但是該材料是由碳化硅和游離硅組成的兩相材料，在研磨拋光等過程各相的去除速率不一致，無法達到更高的面型精度，因此無法滿足特定光學部件性能要求。 采用反應燒結碳化硅基體結合化學氣相沉積碳化硅(CVDSiC)膜層的方法制備高性能反射鏡，通過優(yōu)化先驅體種類、沉積溫度、沉積壓力、反應氣體配比、氣體流場、溫度場等關鍵工藝參數，可實現大面積、均勻CVDSi

碳化硅陶瓷反應連接技術[ 08-22 17:23 ]

全封閉、中空部件的制備一般采用連接工藝獲得，目前常用的陶瓷連接方法主要有釬焊、擴散焊等，但這些方法均存在工藝復雜、焊接料性能同碳化硅基體差別大等缺點，難以滿足光刻機等集成電路制造裝備對復雜結構部件的使用要求。 根據反應燒結碳化硅的工藝特點，將待粘接零部件進行預處理，并通過粘接料對制品進行粘接，隨后再進行反應燒結，使制品的連接與反應燒結同步完成。通過調節(jié)粘接料的組分、控制連接工藝，可實現復雜結構部件的致密、高強度、無縫隙粘接。

高精度碳化硅陶瓷制品無模成型工藝[ 08-20 16:21 ]

雖然采用凝膠注模成型工藝可以實現復雜形狀陶瓷制品的近凈尺寸制備，但該工藝對模具要求高，在制備復雜大尺寸部件時需設計和制造模具，增加了時間成本和模具成本，一定程度上制約了該工藝在陶瓷結構件批量化生產中的應用。另一方面，對一些尺寸精度要求高的陶瓷部件，凝膠注模成型工藝則無法滿足其尺寸精度要求。 與傳統(tǒng)“自下而上”的無模成型工藝不同，陶瓷素坯加工工藝(Greenceramicmachining,GCM)是一種“自上而下”的工藝，其原理類似金屬材料或木材的加工過程如車、