碳化硅的新應用
碳化硅是一種寬帶隙半導體材料,也是目前發(fā)展最為成熟的第三代半導體材料,具有優(yōu)良的熱學、力學、化學和電學性質,不但是制作高溫、高頻、大功率電子器件的最佳材料之一,同時又可以用作基于氮化鎵的藍光發(fā)光二極管的襯底材料,可廣泛應用在電力電子領域、微波器件領域和LED光電子領域,使用碳化硅可以承受更高電源、更大電路、耗盡層可以做的更薄,因而工作速度更快、器件體積更小、重量更輕。
在市面上一般有三種材料可作為襯底:藍寶石、硅、碳化硅。其中藍寶石是使用最多的沉底材料,具有生產技術成熟、器件質量較好、穩(wěn)定性好、機械強度高、易于處理和清洗等優(yōu)點。但它也有許多不能克服的缺點:第一,晶格失配和熱應力失配會導致外延層中產生大量缺陷,同時給后續(xù)器件加工工藝造成困難;第二,藍寶石是絕緣體,電阻率很大,無法制成垂直結構的器件;第三,通常在外延層上表面制作N型和P型電極,造成了有效發(fā)光面積減少,材料利用率降低;第四,藍寶石的硬度非常高,僅次于金剛石,難以對它進行薄化和切割;第五,藍寶石導熱性能不是很好,因此在使用半導體照明器件時,會傳導出大量的熱量,對面積較大的大功率器件,導熱性能是一個非常重要的考慮因素。
此文關鍵字:碳化硅
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